AXCELIS社が「GSD OVATION」高電流・高エネルギー・バッチ注入装置を発表

急騰する200mm市場を支援するよう設計された新構成

マサチューセッツ州ビバリー、2021年11月2日 /PRNewswire/ -- 革新的かつ生産性の高いソリューションを半導体業界に提供する大手サプライヤーであるAxcelis Technologies社（ナスダック：ACLS）は、GSD Ovation^TM高電流・高エネルギー・バッチ注入装置の導入を本日発表いたします。新型GSD Ovationシステムは、最も長く生産・支持されたバッチ・イオン注入装置の業界標準となり大きな成功を収めたGSDシリーズ注入装置をベースとし、活発化する200mm製造工場の新たな建設と拡張活動を支援するよう設計されています。

Axcelis introduces the GSD Ovation™ high current and high energy batch implanters. Based on the highly successful GSD Series of implanters, the industry benchmark for the longest manufactured and supported batch ion implanter, the new GSD Ovation systems are designed to support the growing 200mm new fab construction and expansion activity.

社長兼最高経営責任者であるMary Pumaは、「2015年より200mm製造工場の建設と拡張が急増しており、それにより新品ならびに中古の200mm設備が不足しています。この200mm IC生産の成長は先例のない規模です。Axcelisは、当社の既存のシリーズとシームレスに統合し、また新たな200mm製造工場に発展的バッチ構成を取り入れた業界最良の200mmバッチ注入ソリューションを提供し、この著しい需要の支援に尽力しています。」と述べています。

製品開発担当取締役副社長であるBill Bintzは次のように付け加えています。「新しいGSD Ovationシリーズは、200mm製造工場にとっての業界標準ツールとしてAxcelisの市場でのリーダー的地位をさらに強化します。革新的技術改善、また、積極的かつ継続的なロードマップ改善を組み合わせることで、比類のない信頼性と所有コストの最低限化を叶えつつ、頑強な能力の拡張、最適化、維持を行うための最も早く、かつ費用対効果の高い方法を実現します。GSD製品のラインナップには、一般的な高電流用途および高エネルギー用途向けのGSD/E2 Ovationや最大エネルギーを3MeVとするGSD/HE Ovation、そして最大エネルギーを4.9MeVとするGSD/VHE Ovationといった、お客様のバッチ注入プロセスに最適なエネルギー範囲の選択を可能にする各種注入装置が含まれています。」

Axcelis社について：

マサチューセッツ州ビバリーに本社を構えるAxcelis（ナスダック：ACLS）は、革新的かつ生産性の高い半導体業界向けソリューションを40年以上にわたり提供しています。また、イオン注入システムの設計、製造、そしてライフサイクル全体の支援を通じて、半導体製造プロセスにおいて最も重要かつ有効なプロセス・アプリケーションの開発に力を注いでいます。Axcelisについての詳細はwww.axcelis.comをご覧ください。

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