Axcelis社がSEMICON Japan 2021への出展を発表

会場ではパワー・デバイス、イメージ・センサ、メモリ市場の新たなニーズを満たすよう設計されたPurion及びGSD Ovationシリーズ・イオン注入装置を前面に打ち出して展示

米国マサチューセッツ州ビバリー市、2021年11月15日 /PRNewswire/ -- 半導体業界向けの有効なイオン注入ソリューションの大手サプライヤーであるAxcelis Technologies社（ナスダック：ACLS）は、Purion^TMとGSD Ovation^TMシリーズ・イオン注入装置をSEMICON Japan 2021展示会にて展示することを本日発表いたします。アジア太平洋地域において最も重要な技術フォーラムの一つであるこのイベントは、東京ビッグサイト（日本・東京）にて12月15～17日に開催されます。Axcelis社は5731番ブースで展示を行います。

半導体製造企業の皆様におかれましては、是非ともAxcelis社の展示をご覧になり、技術上、そして製造上の大きな優位性をもたらす革新的なイオン注入ソリューションを直にご体験ください。

• Purionシリーズ ­­- このプラットフォームは最高レベルの純度、精度、生産性を提供し、最も要求の厳しい今日の高電流、中電流、そして高エネルギー用途のニーズを満たすよう独自の実現技術を用いて設計されています。これには、全てのパワー・デバイス・アプリケーションの範囲においてシリコン(Si) 及びシリコンカーバイド(SiC) 両方の処理を可能とするAxcelisの革新的ソリューションを特徴としたPurion Power Series™が含まれています。
• GSD Ovationシリーズ - 新型GSD Ovation高電流・高エネルギー・システムは、最も長く生産・支持されたバッチ式イオン注入装置の業界標準となり大きな成功を収めたGSDシリーズ注入装置をベースとし、活発化する200mm製造工場の新たな建設と拡張活動を支援するよう設計されています。革新的改善と積極的な継続的改善ロードマップを組み合わせることで、比類のない信頼性と所有コストの最低限化を叶えつつ、従来の堅固な性能を拡張し、最適化し、維持するための最も早く、かつ費用対効果の高い方法を実現します。

Axcelis Technologiesの社長兼最高経営責任者（CEO）であるMary Pumaは、「この重要な市場の一員になれて、またPurionとGSD Ovationシリーズの高度イオン注入技術を日本の半導体製造企業にご紹介する新たな機会を持つことができ、とても嬉しく思っています。日本の半導体製造企業が現状の成長し続けているパワー・デバイス、イメージ・センサ、メモリ市場の需要を下支えしております。」と述べています。

Axcelisの日本担当カントリー・マネージャである寄田直康は、「日本のお客様は、Axcelisのイオン注入技術がもたらす、幅広い製品ラインナップと、最先端の能力に大いに期待されると考えています。Axcelisは、新たなイオン注入技術の課題を解決するため、高付加価値を持ちかつ、高度に差別化されたPurion製品を提供するために、お客様との連携に尽力していきます」とコメントしています。

Axcelis社について：米国マサチューセッツ州ビバリー市に本社を構えるAxcelis（ナスダック：ACLS）は、革新的かつ生産性の高い半導体業界向けソリューションを40年以上にわたり提供しています。また、イオン注入システムの設計、製造、そしてライフ・サイクル全体の支援を通じて、IC製造プロセスにおいて最も重要かつ有効な段階の一つである有効なプロセス・アプリケーションの開発に力を注いでいます。Axcelisについての詳細はwww.axcelis.comをご覧ください。

AXCELIS社お問い合わせ先：
日本：
寄田直康（カントリー・マネージャ）    03-5860-2586

その他全ての地域：
Maureen Hart（記事／メディア）           +1-978-787-4266
Doug Lawson（投資家向け広報活動）  +1-978-787-9552

ロゴ - https://mma.prnasia.com/media2/144199/axcelis_technologies__inc__logo.jpg?p=medium600